光刻胶显影液
| 光刻胶显影液 | |
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适用于金属的碱性显影液 RD3 RD3 |
有机显影液（TMAH）RD6 RD6 |
- 应用
- 显影出抗蚀图案
- 去除PC4系列的暂时黏附，保护，及平坦化的材料
- 特性
- 水性溶液
- 对生产率的影响
- 单个显影液可用于正性光刻胶和负性光刻胶
- 溶剂在去除PC4系列膜层是消除 （消除被去除的PC4系列膜层中的溶剂）
- 符合国际的环境标准
| 金属离子型显影液: |
| 金属离子型显影液能够适用于正性光刻胶及负性光刻胶. |
| 适用于金属的碱性显影液: |
| 用于金属的碱性显影液适用于正性光刻胶. |